Hafnium tetrachloride | ម្សៅ HfCl4 | CAS 13499-05-3 | តម្លៃរោងចក្រ

Hafnium tetrachloride | ម្សៅ HfCl4 | CAS 13499-05-3 | រូបភាពពិសេសតម្លៃរោងចក្រ

ការពិពណ៌នាសង្ខេប៖

Hafnium tetrachloride មានកម្មវិធីសំខាន់ៗជាប្រភពមុនគេនៃ hafnium oxide កាតាលីករសម្រាប់ការសំយោគសរីរាង្គ កម្មវិធីនុយក្លេអ៊ែរ និងការទម្លាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើង ដោយបញ្ជាក់ពីភាពបត់បែន និងសារៈសំខាន់របស់វានៅក្នុងវិស័យបច្ចេកវិទ្យាផ្សេងៗ។

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

ផ្ញើអ៊ីមែលមកយើង

ព័ត៌មានលម្អិតអំពីផលិតផល

ស្លាកផលិតផល

ការពិពណ៌នាផលិតផល

ការណែនាំខ្លីៗ

ឈ្មោះផលិតផល: Hafnium tetrachloride
CAS លេខ៖ 13499-05-3
រូបមន្តផ្សំ៖ HfCl4
ទំងន់ម៉ូលេគុល: 320.3
រូបរាង៖ ម្សៅពណ៌ស

ការបញ្ជាក់

ធាតុ	ការបញ្ជាក់
រូបរាង	ម្សៅពណ៌ស
HfCl4+ZrCl4	≥ 99.9%
Zr	≤ 200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤ 20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤ 20ppm
Cr	≤ 20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

ការដាក់ពាក្យ

បុព្វកថា Hafnium Dioxide៖ Hafnium tetrachloride ត្រូវបានគេប្រើជាចម្បងជាមុនគេក្នុងការផលិតហាហ្វនីញ៉ូមឌីអុកស៊ីត (HfO2) ដែលជាវត្ថុធាតុដែលមានលក្ខណៈសម្បត្តិឌីអេឡិចត្រិចដ៏ល្អបំផុត។ HfO2 ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងកម្មវិធី high-k dielectric សម្រាប់ transistors និង capacitors នៅក្នុងឧស្សាហកម្ម semiconductor ។ HfCl4 មានសារៈសំខាន់ក្នុងការផលិតឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកកម្រិតខ្ពស់ ដោយសារសមត្ថភាពបង្កើតជាខ្សែភាពយន្តស្តើងនៃសារធាតុហាហ្វនីញ៉ូមឌីអុកស៊ីត។
កាតាលីករសំយោគសរីរាង្គ៖ Hafnium tetrachloride អាចត្រូវបានប្រើជាកាតាលីករសម្រាប់ប្រតិកម្មសំយោគសរីរាង្គផ្សេងៗ ជាពិសេស olefin polymerization ។ លក្ខណៈសម្បត្តិអាស៊ីត Lewis របស់វាជួយបង្កើតអន្តរការីសកម្ម ដោយហេតុនេះធ្វើអោយប្រសើរឡើងនូវប្រសិទ្ធភាពនៃប្រតិកម្មគីមី។ កម្មវិធីនេះមានតម្លៃក្នុងការផលិតសារធាតុប៉ូលីម៊ែរ និងសារធាតុសរីរាង្គផ្សេងទៀតនៅក្នុងឧស្សាហកម្មគីមី។
កម្មវិធីនុយក្លេអ៊ែរ៖ ដោយសារផ្នែកឆ្លងកាត់នៃការស្រូបយកនឺត្រុងខ្ពស់របស់វា ហាហ្វនីញ៉ូម តេត្រាក្លរីត ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងកម្មវិធីនុយក្លេអ៊ែរ ជាពិសេសនៅក្នុងកំណាត់គ្រប់គ្រងនៃរ៉េអាក់ទ័រនុយក្លេអ៊ែរ។ ហាហ្វនីញ៉ូមអាចស្រូបយកនឺត្រុងបានយ៉ាងមានប្រសិទ្ធភាព ដូច្នេះវាគឺជាសម្ភារៈដែលសមរម្យសម្រាប់ធ្វើនិយតកម្មដំណើរការបំបែក ដែលជួយកែលម្អសុវត្ថិភាព និងប្រសិទ្ធភាពនៃការបង្កើតថាមពលនុយក្លេអ៊ែរ។
ការធ្លាក់ចុះនៃខ្សែភាពយន្តស្តើង៖ Hafnium tetrachloride ត្រូវបានប្រើនៅក្នុងដំណើរការការទម្លាក់ចំហាយគីមី (CVD) ដើម្បីបង្កើតជាខ្សែភាពយន្តស្តើងនៃវត្ថុធាតុដែលមានមូលដ្ឋានលើ hafnium ។ ខ្សែភាពយន្តទាំងនេះមានសារៈសំខាន់នៅក្នុងកម្មវិធីជាច្រើន រួមទាំងមីក្រូអេឡិចត្រូនិច អុបទិក និងថ្នាំកូតការពារ។ សមត្ថភាពក្នុងការដាក់ប្រាក់ឯកសណ្ឋាន និងខ្សែភាពយន្តដែលមានគុណភាពខ្ពស់ធ្វើឱ្យ HfCl4 មានតម្លៃនៅក្នុងដំណើរការផលិតកម្រិតខ្ពស់។